等離子去膠系統(tǒng)

等離子體源

射頻式電感耦合等離子體源或雙頻等離子體源

反應(yīng)腔室

標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)為雙反應(yīng)腔室，可根據(jù)需求定制單反應(yīng)腔室和多反應(yīng)腔室結(jié)構(gòu)

機(jī)械傳片

單臂或雙臂高精度機(jī)械手

Wafer升降

機(jī)械式Wafer pin升降結(jié)構(gòu)，Wafer pin采用特定工藝處理

真空泵

干式真空泵，根據(jù)安裝位置及工藝不同，選擇100-600m³/h規(guī)格。如工藝需求，可增加分子泵。

工藝壓力控制

自動(dòng)調(diào)壓蝶閥

真空檢測(cè)

管道真空計(jì)、反應(yīng)腔室全量程真空計(jì)、工藝真空計(jì)

工藝氣體種類

標(biāo)準(zhǔn)配置Ar、N2、O2，可增加CF4及其他工藝氣體

氣體流量控制

質(zhì)量流量控制器（MFC）

反應(yīng)腔室溫度范圍

50 - 280℃

控制系統(tǒng)

基于工業(yè)電腦設(shè)計(jì)開發(fā)的人機(jī)交互系統(tǒng)，系統(tǒng)設(shè)計(jì)人性化、操作簡(jiǎn)單